高純材料生產(chǎn)和封裝專用氬氣凈化器、純化裝置（帶氮通道直讀光譜儀專用）可與美國(guó)熱電，德國(guó)斯派克、OBFL、布魯克；瑞士ARL，日本島津，北京納克，英國(guó)阿朗，北京瑞利等多家光譜儀公司生產(chǎn)的直讀光譜儀、熒光光譜儀、輝光光譜儀配套使用，以增強(qiáng)分析數(shù)據(jù)的可靠性和穩(wěn)定性，同時(shí)可以較大的節(jié)省購(gòu)買高純氬氣的成本。RZ-YA-4C尤其適用于與帶氮通道的直讀光譜儀配套使用，同時(shí)該凈化機(jī)也可用作高純材料（如單晶硅、多晶硅、高純金屬）生產(chǎn)的保護(hù)氣氛。

凈化原理

該凈化機(jī)利用催化劑促使氬氣中的微量氧氣與碳反應(yīng)生成二氧化碳，從而除去氬氣中的雜質(zhì)氧氣，再利用分子篩吸附脫除氬氣中的H2O、CO2等雜質(zhì)，再利用合金吸附劑吸附脫除氬氣中剩余的的N2等惰性雜質(zhì)，即可得到高純氬氣。

氬氣凈化機(jī)的技術(shù)參數(shù)

對(duì)原料氬氣要求

一般瓶裝純氬，液氬、控制較好的管道氬氣。

雜質(zhì)要求： O2≤1000PPm, H2O≤1000PPm。

輸出純氣

純度：99.9999%

雜質(zhì)含量：

O2≤0.1PPm，

H2O≤1PPm(即露點(diǎn)≤－76℃)，

N2≤0.5PPm

CO+CO2≤0.1PPm，

S、P的氧化物≤0.1PPm。

塵埃粒子數(shù)（≥0.3μm）3-5個(gè)／升。

工作壓力：0.4-1.5MPa。

處理氣量：4NM3/h(其余流量需要定制）。